防爆pid算法控制溫度是配套高溫反應釜在進行化學、化工反應時需要在高溫條件下工作，針對不同的反應釜性能構(gòu)造加熱方式也有水加熱、熱汽加熱、其他介質(zhì)加熱、電加熱等多種選擇，那么，這些都有什么區(qū)別呢？

　　防爆pid算法控制溫度水加熱：要求溫度不高時可采用，加熱系統(tǒng)分敞開式和密閉式兩種。敞開式簡單，它由循環(huán)泵、水槽、管道及控制閥門的調(diào)節(jié)器所組成，當采用高壓水時，設(shè)備機械強度要求高、反應釜外表面焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，導致反應釜熱阻增加、傳熱效果降低。

　　反應釜用其他介質(zhì)加熱：若工藝要求反應釜須在高溫下操作，或欲避免采用高壓的加熱系統(tǒng)時，可采用其他介質(zhì)來代替水和蒸汽。

　　新型反應釜電加熱：將電阻絲纏繞在反應釜筒體的絕緣層上，或安裝在離反應釜若干距離的特設(shè)絕緣體上，因此在電阻絲與反應釜體之間形成了不大的空間間隙。采用前三種方法獲得高溫均需在釜體上增設(shè)夾套，由于溫度變化的幅度大，使釜的夾套及殼體承受。

無錫冠亞防爆pid算法控制溫度，高精度、智能型溫度控制，非常寬的溫度控制范圍，從-120℃~350℃，適合多數(shù)企業(yè)恒溫控制需求。產(chǎn)品控溫精度可達±0.5℃，制冷功率從0.5kW到1200kW均可提供相應產(chǎn)品。典型應用于：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸餾系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。